Strahlformung mit Alvarez-Systemen höherer Ordnung

Anna Möhl, Sven Wickenhagen, Ulrike Fuchs

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Zusammenfassung

Zahlreiche Laseranwendungen in Industrie und Forschung streben stets nach kompakteren Systemen und gleichzeitig steigender Leistungsfähigkeit. Nicht selten muss hier ein Kompromiss zwischen den Wunschvorstellungen gefunden werden. Das bekannte Alvarez-Prinzip bietet jedoch viele Möglichkeiten, eine Strahlführung bzw. -formung zu finden, die beide Anforderungen miteinander verbindet.
Dieses Prinzip wurde aufgegriffen und weiterentwickelt. Der neueste Fortschritt in der Freiformfertigungstechnologie ermöglicht die Herstellung dieser Oberflächen in beliebigen Formen und mit wesentlich höherer Genauigkeit. Aus diesem Grund wurde die klassische Oberflächenbeschreibung um eine Beschreibung durch Zernike-Polynome erweitert, mit dem Ergebnis, dass auf diese Weise sogar eine beugungsbegrenzte Abbildungsqualität erreicht werden kann. Daraus ergeben sich vielfältige Einsatzmöglichkeiten, die im Rahmen dieses Papers vorgestellt werden sollen.
Hierbei handelt es sich zum einen um ein optisches System zur Erzeugung von homogenen Intensitätsverteilungen (Top-Hat-Profile) in unterschiedlichen Größen aus einem Gaußschen Eingangsstrahl. Des Weiteren wird ein Design für ein kompaktes multi-fokales Linsensystem vorgestellt und schließlich ein Konzept für eine platzsparende Lösung zur Anpassung der Strahldivergenz präsentiert.

Über die Autoren

Dr. Ulrike Fuchs, Anna Möhl, Sven Wickenhagen, asphericon GmbH, D-07745 Jena

Diesen Artikel zitieren

Anna Möhl, Sven Wickenhagen, Ulrike Fuchs (2018): Strahlformung mit Alvarez-Systemen höherer Ordnung, in: Wolf-Dieter Prenzel (Hrsg.), Jahrbuch Optik und Feinmechanik 2018, Görlitz: Optik-Verlag

Über das Buch